Stoichiometric Control of SiO x...

Plasma Processes and Polymers 2016 / 08

Stoichiometric Control of SiO x Thin Films Grown by Reactive Magnetron Sputtering at Oblique Angles

Garcia-Valenzuela, Aurelio, Alvarez, Rafael, Lopez-Santos, Carmen, Ferrer, Francisco J., Rico, Victor, Guillen, Elena, Alcon-Camas, Mercedes, Escobar-Galindo, Ramon, Gonzalez-Elipe, Agustin R., Palmer
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Langue:
english
Journal:
Plasma Processes and Polymers
DOI:
10.1002/ppap.201600077
Date:
August, 2016
Fichier:
PDF, 1.28 MB
english, 2016
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