Thermal stability of Mo/Si multilayer soft-X-ray mirrors...

Applied Physics A: Materials Science & Processing 1994 / 04 Vol. 58; Iss. 4

Thermal stability of Mo/Si multilayer soft-X-ray mirrors fabricated by electron-beam evaporation

H. -J. Stock, U. Kleineberg, B. Heidemann, K. Hilgers, A. Kloidt, B. Schmiedeskamp, U. Heinzmann, M. Krumrey, P. Müller, F. Scholze
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Volume:
58
Langue:
english
Pages:
6
DOI:
10.1007/bf00323612
Date:
April, 1994
Fichier:
PDF, 569 KB
english, 1994
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