ChemInform Abstract: Chemical Vapor Deposition in the...

ChemInform 1990 / 02 Vol. 21; Iss. 7

ChemInform Abstract: Chemical Vapor Deposition in the System Ti-N-B: TiN as a Diffusion Barrier for Boron.

BECHT, J. G. M., VAN DER PUT, P. J., SCHOONMAN, J.
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Volume:
21
Journal:
ChemInform
DOI:
10.1002/chin.199007018
Date:
February, 1990
Fichier:
PDF, 228 KB
1990
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