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[IEEE 2016 27th Annual SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC) - Saratoga Springs, NY, USA (2016.5.16-2016.5.19)] 2016 27th Annual SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC) - Pattern dependent plasma charging effect in high aspect ratio 3D NAND architecture

Yang, Zusing, Chung, Yao-An, Chang, Sheng-Yuan, Lee, Hong-Ji, Lian, Nan-Tzu, Yang, Tahone, Chen, Kuang-Chao, Lu, Chih Yuan

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Année:

2016

Langue:

english

DOI:

10.1109/asmc.2016.7491166

Fichier:

PDF, 1.23 MB

english, 2016

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