Gas-temperature control in VHF- PECVD process for high-rate...

Gas-temperature control in VHF- PECVD process for high-rate (>5 nm/s) growth of microcrystalline silicon thin films

Yasushi Sobajima, Takuya Higuchi, Jakapan Chantana, Toshihiko Toyama, Chitose Sada, Akihisa Matsuda, Hiroaki Okamoto
Avez-vous aimé ce livre?
Quelle est la qualité du fichier téléchargé?
Veuillez télécharger le livre pour apprécier sa qualité
Quelle est la qualité des fichiers téléchargés?
Volume:
7
Année:
2010
Langue:
english
Pages:
1
DOI:
10.1002/pssc.200982711
Fichier:
PDF, 207 KB
english, 2010
La conversion en est effectuée
La conversion en a échoué