Surface Cleaning and Etching of 4H-SiC(0001) Using...

Journal of Nanoscience and Nanotechnology 2011 / 04 Vol. 11; Iss. 4

Surface Cleaning and Etching of 4H-SiC(0001) Using High-Density Atmospheric Pressure Hydrogen Plasma

Watanabe, Heiji, Ohmi, Hiromasa, Kakiuchi, Hiroaki, Hosoi, Takuji, Shimura, Takayoshi, Yasutake, Kiyoshi
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Volume:
11
Langue:
english
Journal:
Journal of Nanoscience and Nanotechnology
DOI:
10.1166/jnn.2011.3911
Date:
April, 2011
Fichier:
PDF, 6.86 MB
english, 2011
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