Phase separation in SiOx films annealed under enhanced...

Phase separation in SiOx films annealed under enhanced hydrostatic pressure

G. Yu. Rudko, I. Yu. Maidanchuk, I. Z. Indutnyy, A. Misiuk, E. G. Gule, P. E. Shepeliavyi

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Volume:

245

Année:

2008

Langue:

english

Pages:

DOI:

10.1002/pssb.200844049

Fichier:

PDF, 178 KB

english, 2008

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