DNA Origami Mask for Sub-Ten-Nanometer Lithography

ACS Nano 2016 / 06

DNA Origami Mask for Sub-Ten-Nanometer Lithography

Diagne, Cheikh Tidiane, Brun, Christophe, Gasparutto, Didier, Baillin, Xavier, Tiron, Raluca
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Langue:
english
Journal:
ACS Nano
DOI:
10.1021/acsnano.6b00413
Date:
June, 2016
Fichier:
PDF, 696 KB
english, 2016
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