Effects of thermal annealing on the charge localization...

Microelectronics Reliability 2016 / 06 Vol. 61

Effects of thermal annealing on the charge localization characteristics of HfO2/Au/HfO2 stack

Feng, Xuan, Dong, Shurong, Wong, Hei, Yu, Danqun, Pey, K.L., Shubhakar, K., Lau, W.S.
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Volume:
61
Langue:
english
Journal:
Microelectronics Reliability
DOI:
10.1016/j.microrel.2016.02.012
Date:
June, 2016
Fichier:
PDF, 622 KB
english, 2016
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