A novel positive resist for deep UV lithography

Polymer Engineering & Science 1989 Vol. 29; Iss. 13

A novel positive resist for deep UV lithography

Tsuguo Yamaoka, Masashi Nishiki, Ken'Ichi Koseki, Mitsunobu Koshiba
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Volume:
29
Année:
1989
Langue:
english
Pages:
3
DOI:
10.1002/pen.760291305
Fichier:
PDF, 208 KB
english, 1989
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