Transient Enhanced Diffusion of Arsenic by...

MRS Proceedings 2000 / 1 Vol. 610

Transient Enhanced Diffusion of Arsenic by Self-Implantation —The role of As-I clusters—

Kim, Ryangsu, Aoki, Takenori, Furuta, Yoshikazu, Kobyashi, Hiroyuki, Xia, Jianxin, Saito, Tomoya, Kamakura, Yoshinari, Taniguchi, Kenji
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Volume:
610
Langue:
english
Journal:
MRS Proceedings
DOI:
10.1557/proc-610-b8.2
Date:
January, 2000
Fichier:
PDF, 148 KB
english, 2000
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