193 nm resists and lithography

Polymers for Advanced Technologies 1994 Vol. 5; Iss. 1

193 nm resists and lithography

Roderick R. Kunz, Robert D. Allen, Mark A. Hartney, William D. Hinsberg, Mark W. Horn, Craig L. Keast, Mordechai Rothschild, David C. Shaver, Gregory M. Wallraff
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Volume:
5
Année:
1994
Langue:
english
Pages:
10
DOI:
10.1002/pat.1994.220050103
Fichier:
PDF, 2.35 MB
english, 1994
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