Fabrication of Epitaxial Silicides thin films by Combining...

MRS Proceedings 1995 / 1 Vol. 402

Fabrication of Epitaxial Silicides thin films by Combining Low-Energy Ion Beam Deposition and Silicon Molecular Beam Epitaxy

Shibatal, H., Makital, Y., Katsumata, H., Kimura, S., Kobayashil, N., Hasegawa, M., Hishita, S., Beye, A. C., Takahashi, H., Tanabe, J., Uekusa, S.
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Volume:
402
Langue:
english
Journal:
MRS Proceedings
DOI:
10.1557/proc-402-517
Date:
January, 1995
Fichier:
PDF, 496 KB
english, 1995
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