Y shape gate formation in single layer of ZEP520A using 3D...

Microelectronic Engineering 2015 / 08 Vol. 143

Y shape gate formation in single layer of ZEP520A using 3D electron beam lithography

Shao, Jinhai, Zhang, Sichao, Liu, Jianpeng, Lu, Bing-Rui, Taksatorn, Nit, Lu, W., Chen, Yifang
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Volume:
143
Langue:
english
Journal:
Microelectronic Engineering
DOI:
10.1016/j.mee.2015.03.020
Date:
August, 2015
Fichier:
PDF, 1.20 MB
english, 2015
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