Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition – Technological...

Archives of Metallurgy and Materials 2015 / 01 Vol. 60; Iss. 2

Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition – Technological Design Of Functional Coatings

Januś, M., Kyzioł, K., Kluska, S., Konefał-Góral, J., Małek, A., Jonas, S.
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Volume:
60
Langue:
english
Journal:
Archives of Metallurgy and Materials
DOI:
10.1515/amm-2015-0228
Date:
January, 2015
Fichier:
PDF, 782 KB
english, 2015
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