Characterisation of HF-last cleaning of ion-implanted Si...

Materials Science in Semiconductor Processing 1998 Vol. 1; Iss. 2

Characterisation of HF-last cleaning of ion-implanted Si surfaces

E. Kondoh, M.R. Baklanov, F. Jonckx, K. Maex
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Volume:
1
Année:
1998
Langue:
english
Pages:
11
DOI:
10.1016/s1369-8001(98)00014-6
Fichier:
PDF, 514 KB
english, 1998
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