Diffusion of ion-implanted boron impurities into...

Materials Science in Semiconductor Processing 2000 Vol. 3; Iss. 3

Diffusion of ion-implanted boron impurities into pre-amorphized silicon

Naotsugu Ohno, Tohru Hara, Yasuhiko Matsunaga, Michael I Current, Morio Inoue
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Volume:
3
Année:
2000
Langue:
english
Pages:
5
DOI:
10.1016/s1369-8001(00)00036-6
Fichier:
PDF, 246 KB
english, 2000
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