Growth of Ge Layer on Relaxed Ge-Rich SiGe by Ultrahigh...

Tsinghua Science & Technology 2007 Vol. 12; Iss. 6

Growth of Ge Layer on Relaxed Ge-Rich SiGe by Ultrahigh Vacuum Chemical Vapor Deposition

Jialei Liu, Liang Renrong, Jing Wang, Yang Xu, Jun Xu, Zhihong Liu
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Volume:
12
Année:
2007
Langue:
english
Pages:
5
DOI:
10.1016/s1007-0214(07)70184-0
Fichier:
PDF, 481 KB
english, 2007
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