A study of the effect of the structure of plasma-chemical...

Semiconductors 2015 / 12 Vol. 49; Iss. 13

A study of the effect of the structure of plasma-chemical silicon nitride on its masking properties

Garmash, V. I., Egorkin, V. I., Zemlyakov, V. E., Kovalchuk, A. V., Shapoval, S. Yu.
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Volume:
49
Langue:
english
Journal:
Semiconductors
DOI:
10.1134/S1063782615130084
Date:
December, 2015
Fichier:
PDF, 199 KB
english, 2015
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