Hall bar device processing on patterned substrates using...

Hall bar device processing on patterned substrates using optical lithography

P. Eliáš, S. Hasenöhrl, J. Fedor, V. Cambel
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Volume:
101
Année:
2002
Langue:
english
Pages:
6
DOI:
10.1016/s0924-4247(02)00191-7
Fichier:
PDF, 271 KB
english, 2002
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