Simulation of anisotropic wet chemical etching using a...

Sensors and Actuators A: Physical 2000 Vol. 84; Iss. 3

Simulation of anisotropic wet chemical etching using a physical model

E van Veenendaal, A.J Nijdam, J van Suchtelen, K Sato, J.G.E Gardeniers, W.J.P van Enckevort, M Elwenspoek
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Volume:
84
Année:
2000
Langue:
english
Pages:
6
DOI:
10.1016/s0924-4247(00)00362-9
Fichier:
PDF, 408 KB
english, 2000
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