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SPIE Proceedings [SPIE 29th European Mask and Lithography Conference - Dresden, Germany (Tuesday 25 June 2013)] 29th European Mask and Lithography Conference - Application of Mueller matrix spectroscopic ellipsometry to determine line edge roughness on photomasks

Heinrich, A., Dirnstorfer, I., Bischoff, J., Richter, U., Ketelson, H., Meiner, K., Mikolajick, T., Behringer, Uwe F. W., Maurer, Wilhelm
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Volume:
8886
Année:
2013
Langue:
english
DOI:
10.1117/12.2030627
Fichier:
PDF, 1.06 MB
english, 2013
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