Atomistic comparative study of VUV photodeposited silicon...

Applied Surface Science 2000 Vol. 154-155; Iss. none

Atomistic comparative study of VUV photodeposited silicon nitride on InP(100) by simulation and atomic force microscopy

J. Flicstein, E. Guillonneau, J. Marquez, L.S. How Kee Chun, D. Maisonneuve, C. David, Zh. Wang, J.F. Palmier, J.L. Courant
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Volume:
154-155
Année:
2000
Langue:
english
Pages:
8
DOI:
10.1016/s0169-4332(99)00452-3
Fichier:
PDF, 369 KB
english, 2000
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