
Analytical studies of nickel silicide formation through a thin Ti layer
F. Fenske, A. Schöpke, S. Schulze, B. SelleVolume:
104-105
Année:
1996
Langue:
english
Pages:
5
DOI:
10.1016/s0169-4332(96)00147-x
Fichier:
PDF, 406 KB
english, 1996