Nanopattern Profile Control Technology Using Reactive Ion...

Japanese Journal of Applied Physics 2006 / 2 Vol. 45; Iss. 2B

Nanopattern Profile Control Technology Using Reactive Ion Etching for 100 GB Optical Disc Mastering

Fujimura, Megumi, Hosoda, Yasuo, Katsumura, Masahiro, Kobayashi, Masaki, Kitahara, Hiroaki, Hashimoto, Kazunobu, Kasono, Osamu, Iida, Tetsuya, Kuriyama, Kazumi, Yokogawa, Fumihiko
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Volume:
45
Langue:
english
Journal:
Japanese Journal of Applied Physics
DOI:
10.1143/JJAP.45.1414
Date:
February, 2006
Fichier:
PDF, 125 KB
english, 2006
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