Optimization of Contact Process with Monte Carlo Study for...

Japanese Journal of Applied Physics 1996 / 2 Vol. 35; Iss. Part 1, No

Optimization of Contact Process with Monte Carlo Study for Advanced CMOS Devices

Sumi, Hirofumi, Yanagida, Toshiharu, Sugano, Yukiyasu, Ikeda, Yuji, Kishida, Satoru, Tokutaka, Heizo, Sasserath, Jay N.
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Volume:
35
Langue:
english
Journal:
Japanese Journal of Applied Physics
DOI:
10.1143/JJAP.35.1120
Date:
February, 1996
Fichier:
PDF, 121 KB
english, 1996
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