Influence of Deposition Conditions on Properties of...

Japanese Journal of Applied Physics 1985 / 6 Vol. 24; Iss. Part 1, No

Influence of Deposition Conditions on Properties of Hydrogenated Amorphous Silicon Prepared by RF Glow Discharge

Nishikawa, Satoshi, Kakinuma, Hiroaki, Watanabe, Tsukasa, Nihei, Koji
Avez-vous aimé ce livre?
Quelle est la qualité du fichier téléchargé?
Veuillez télécharger le livre pour apprécier sa qualité
Quelle est la qualité des fichiers téléchargés?
Volume:
24
Journal:
Japanese Journal of Applied Physics
DOI:
10.1143/JJAP.24.639
Date:
June, 1985
Fichier:
PDF, 1.03 MB
1985
La conversion en est effectuée
La conversion en a échoué