Ni Oxyhydroxide Thin Films Prepared by Reactive Sputtering...

Japanese Journal of Applied Physics 2009 / 1 Vol. 48; Iss. 1

Ni Oxyhydroxide Thin Films Prepared by Reactive Sputtering Using O 2 + H 2 O Mixed Gas

Ueta, Hideaki, Abe, Yoshio, Kato, Kiyohiko, Kawamura, Midori, Sasaki, Katsutaka, Itoh, Hidenobu
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Volume:
48
Langue:
english
Journal:
Japanese Journal of Applied Physics
DOI:
10.1143/JJAP.48.015501
Date:
January, 2009
Fichier:
PDF, 537 KB
english, 2009
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