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Double Patterning Using Multilayer Hard Mask Process with...

Japanese Journal of Applied Physics 2011 / 4 Vol. 50; Iss. 4

Double Patterning Using Multilayer Hard Mask Process with Perhydropolysilazane

Terai, Mamoru, Shinohara, Masaaki, Yonekura, Kazumasa, Hagiwara, Takuya, Hanawa, Tetsuro, Kumada, Teruhiko
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Volume:
50
Langue:
english
Journal:
Japanese Journal of Applied Physics
DOI:
10.1143/JJAP.50.046503
Date:
April, 2011
Fichier:
PDF, 458 KB
english, 2011
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