Al Etching Characteristics Employing Helicon Wave Plasma

Japanese Journal of Applied Physics 1993 / 6 Vol. 32; Iss. Part 1, No

Al Etching Characteristics Employing Helicon Wave Plasma

Jiwari, Nobuhiro, Iwasawa, Hiroaki, Narai, Akira, Sakaue, Hiroyuki, Shindo, Haruo, Shoji, Tatsuo, Horiike, Yasuhiro
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Volume:
32
Journal:
Japanese Journal of Applied Physics
DOI:
10.1143/JJAP.32.3019
Date:
June, 1993
Fichier:
PDF, 1.03 MB
1993
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