Chlorine-enhanced thermal oxides growth and significant...

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Chlorine-enhanced thermal oxides growth and significant trap density reduction at SiO2/SiC interface by incorporation of phosphorus

Król, Krystian, Sochacki, Mariusz, Strupinski, Włodzimierz, Racka, Katarzyna, Guziewicz, Marek, Konarski, Piotr, Misnik, Maciej, Szmidt, Jan
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Langue:
english
Journal:
Thin Solid Films
DOI:
10.1016/j.tsf.2015.08.028
Date:
August, 2015
Fichier:
PDF, 624 KB
english, 2015
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