Purified Silicon Film Formation from Metallurgical-Grade...

Japanese Journal of Applied Physics 2011 / 8 Vol. 50; Iss. 8

Purified Silicon Film Formation from Metallurgical-Grade Silicon by Hydrogen-Plasma-Induced Chemical Transport

Ohmi, Hiromasa, Yamada, Takahiro, Kakiuchi, Hiroaki, Yasutake, Kiyoshi
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Volume:
50
Langue:
english
Journal:
Japanese Journal of Applied Physics
DOI:
10.1143/JJAP.50.08JD01
Date:
August, 2011
Fichier:
PDF, 970 KB
english, 2011
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