Dielectric breakdown in high-ε films for ULSI DRAMs

Integrated Ferroelectrics 1993 / 10 Vol. 3; Iss. 3

Dielectric breakdown in high-ε films for ULSI DRAMs

Scott, J. F., Melnick, B. M., McMillan, L. D., De Araujo, C. A. Paz
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Volume:
3
Langue:
english
Journal:
Integrated Ferroelectrics
DOI:
10.1080/10584589308216715
Date:
October, 1993
Fichier:
PDF, 1.10 MB
english, 1993
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