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Growth and Characterization of Titanium Silicide Films on...

Japanese Journal of Applied Physics 1992 / 8 Vol. 31; Iss. Part 1, No

Growth and Characterization of Titanium Silicide Films on Natural Diamond C(001) Substrates

Humphreys, Trevor P., Labrasca, John V., Turner, Kevin F., Nemanich, Robert J., Das, Kalyankumar, Posthill, John B., Hunn, John D., Parikh, Nalin R.
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Volume:
31
Journal:
Japanese Journal of Applied Physics
DOI:
10.1143/JJAP.31.2369
Date:
August, 1992
Fichier:
PDF, 1.69 MB
1992
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