The influence of process parameters and annealing...

The influence of process parameters and annealing temperature on the physical properties of sputtered NiO thin films

I. Hotovỳ, J. Huran, L. Spiess, J. Liday, H. Sitter, Š. Hašcı&amp, #x0301, k
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Volume:
69
Année:
2002
Langue:
english
Pages:
6
DOI:
10.1016/s0042-207x(02)00338-x
Fichier:
PDF, 354 KB
english, 2002
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