Chemical vapor deposition of copper–cobalt binary films

Thin Solid Films 1999 Vol. 340; Iss. 1-2

Chemical vapor deposition of copper–cobalt binary films

Shuo Gu, Paolina Atanasova, Mark J. Hampden-Smith, Toivo T. Kodas
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Volume:
340
Année:
1999
Langue:
english
Pages:
8
DOI:
10.1016/s0040-6090(98)01401-1
Fichier:
PDF, 506 KB
english, 1999
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