Silicon thin films deposited at very low substrate...

Thin Solid Films 2003 Vol. 442; Iss. 1-2

Silicon thin films deposited at very low substrate temperatures

M. Ito, K. Ro, S. Yoneyama, Y. Ito, H. Uyama, T. Mates, M. Ledinsky, K. Luterova, P. Fojtik, H. Stuchlikova, A. Fejfar, J. Kocka
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Volume:
442
Année:
2003
Langue:
english
Pages:
4
DOI:
10.1016/s0040-6090(03)00965-9
Fichier:
PDF, 115 KB
english, 2003
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