Electron attachment to sulfur oxyhalides: SOF[sub 2],...

The Journal of Chemical Physics 2010 Vol. 132; Iss. 21

Electron attachment to sulfur oxyhalides: SOF[sub 2], SOCl[sub 2], SO[sub 2]F[sub 2], SO[sub 2]Cl[sub 2], and SO[sub 2]FCl attachment rate coefficients, 300–900 K

Miller, Thomas M., Friedman, Jeffrey F., Caples, Connor M., Shuman, Nicholas S., Van Doren, Jane M., Bardaro, Michael F., Nguyen, Pho, Zweiben, Cindy, Campbell, Matthew J., Viggiano, A. A.
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Volume:
132
Année:
2010
Langue:
english
Journal:
The Journal of Chemical Physics
DOI:
10.1063/1.3427527
Fichier:
PDF, 901 KB
english, 2010
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