A study on the formation and characteristics of the...

Thin Solid Films 2001 Vol. 390; Iss. 1-2

A study on the formation and characteristics of the SiOCH composite thin films with low dielectric constant for advanced semiconductor devices

Chang Shil Yang, Kyoung Suk Oh, Jai Yon Ryu, Doo Chul Kim, Jing Shou-Yong, Chi Kyu Choi, Heon-Ju Lee, Se Hun Um, Hong Young Chang
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Volume:
390
Année:
2001
Langue:
english
Pages:
6
DOI:
10.1016/s0040-6090(01)00931-2
Fichier:
PDF, 198 KB
english, 2001
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