ZnSe growth by radical assisted MOCVD using hollow cathode...

Thin Solid Films 2000 Vol. 368; Iss. 2

ZnSe growth by radical assisted MOCVD using hollow cathode plasma

Toru Aoki, Takeshi Ikeda, Dariusz Korzec, Yoshinori Hatanaka
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Volume:
368
Année:
2000
Langue:
english
Pages:
5
DOI:
10.1016/s0040-6090(00)00774-4
Fichier:
PDF, 236 KB
english, 2000
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