(Invited) Reliability Considerations of High-K Gate...

(Invited) Reliability Considerations of High-K Gate Dielectrics Deposited by Various Intermediate Treatment

Bhuyian, M., Misra, D.
Avez-vous aimé ce livre?
Quelle est la qualité du fichier téléchargé?
Veuillez télécharger le livre pour apprécier sa qualité
Quelle est la qualité des fichiers téléchargés?
Volume:
60
Langue:
english
Journal:
ECS Transactions
DOI:
10.1149/06001.0103ecst
Date:
February, 2014
Fichier:
PDF, 321 KB
english, 2014
La conversion en est effectuée
La conversion en a échoué