Characterization of defect traps in SiO2 thin films...

Microelectronics Journal 2002 Vol. 33; Iss. 5-6

Characterization of defect traps in SiO2 thin films influence of temperature on defects

Jean-Yves Rosaye, Norihiko Kurumado, Mitsuo Sakashita, Hiroya Ikeda, Akira Sakai, Pierre Mialhe, Jean-Pierre Charles, Shigeaki Zaima, Yukio Yasuda, Yurihiko Watanabe
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Volume:
33
Année:
2002
Langue:
english
Pages:
8
DOI:
10.1016/s0026-2692(02)00004-6
Fichier:
PDF, 156 KB
english, 2002
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