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HfO2 growth by low-pressure chemical vapor deposition using...

HfO2 growth by low-pressure chemical vapor deposition using the Hf(N(C2H5)2)4/O2 gas system

Yoshio Ohshita, Atsushi Ogura, Asako Hoshino, Shigeki Hiiro, Hideaki Machida
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Volume:
233
Année:
2001
Langue:
english
Pages:
6
DOI:
10.1016/s0022-0248(01)01502-0
Fichier:
PDF, 211 KB
english, 2001
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