Solid immersion interference lithography with conformable...

Microelectronic Engineering 2014 / 07 Vol. 123

Solid immersion interference lithography with conformable phase mask

Lin, Chun-Hung, Lin, Yu-Chu, Liang, Chia-Ching
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Volume:
123
Langue:
english
Journal:
Microelectronic Engineering
DOI:
10.1016/j.mee.2014.07.005
Date:
July, 2014
Fichier:
PDF, 1.20 MB
english, 2014
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