Highly Strained Silicon Nitride Thin Film Deposited by...

Advanced Materials Research 2014 / 6 Vol. 936

Highly Strained Silicon Nitride Thin Film Deposited by PECVD with Double Frequencies in Strained Silicon Technologies

Shu, Bin, Chen, Jing Ming, Zhang, He Ming, Zhu, Feng, Quan, Pu Li, Gu, Jiang Yuan, Xuan, Rong Xi, Hu, Hui Yong, Song, Jian Jun
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Volume:
936
Langue:
english
Journal:
Advanced Materials Research
DOI:
10.4028/www.scientific.net/AMR.936.255
Date:
June, 2014
Fichier:
PDF, 1.42 MB
english, 2014
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