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SPIE Proceedings [SPIE SPIE Proceedings - (Sunday 12 February 2012)] - Lithography in UV photoresist using NSOM

Lin, Y., Hong, Ming Hui, Wang, Weijie J., Law, Y. Z., Chong, Tow Chong, Miyamoto, Isamu, Helvajian, Henry, Itoh, Kazuyoshi, Kobayashi, Kojiro F., Ostendorf, Andreas, Sugioka, Koji
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Année:
2012
Langue:
english
DOI:
10.1117/12.595859
Fichier:
PDF, 392 KB
english, 2012
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