Sidewall effect of photomask by scanning electron...

Sidewall effect of photomask by scanning electron microscope and optical critical dimension metrology

Yamane, Takeshi
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Volume:
4
Langue:
english
Journal:
Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS
DOI:
10.1117/1.2037487
Date:
July, 2005
Fichier:
PDF, 543 KB
english, 2005
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