Defect generation and activation processes in HfO...

physica status solidi (a) 2015 / 03 Vol. 212; Iss. 3

Defect generation and activation processes in HfO 2 thin films: Contributions to stress-induced leakage currents

Öttking, Rolf, Kupke, Steve, Nadimi, Ebrahim, Leitsmann, Roman, Lazarevic, Florian, Plänitz, Philipp, Roll, Guntrade, Slesazeck, Stefan, Trentzsch, Martin, Mikolajick, Thomas
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Volume:
212
Langue:
english
Journal:
physica status solidi (a)
DOI:
10.1002/pssa.201431697
Date:
March, 2015
Fichier:
PDF, 6.63 MB
english, 2015
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