Chemical mechanical polishing by colloidal silica-based...

Wear 2004 Vol. 257; Iss. 7-8

Chemical mechanical polishing by colloidal silica-based slurry for micro-scratch reduction

Yoomin Ahn, Joon-Yong Yoon, Chang-Wook Baek, Yong-Kweon Kim
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Volume:
257
Année:
2004
Langue:
english
Pages:
5
DOI:
10.1016/j.wear.2004.03.020
Fichier:
PDF, 230 KB
english, 2004
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