Modelling of plasma etching process using radial basis...

Modelling of plasma etching process using radial basis function network and genetic algorithm

Dongil Han, Seung Bin Moon, Kyungyoung Park, Byungwhan Kim, Kyeong Kyun Lee, Nam Jeung Kim
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Volume:
79
Année:
2005
Langue:
english
Pages:
8
DOI:
10.1016/j.vacuum.2005.03.001
Fichier:
PDF, 224 KB
english, 2005
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